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結(jié)晶粉拋光,研磨到多少目效果最好

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結(jié)晶粉拋光,研磨到多少目效果最好

發(fā)布日期:2018-04-19 作者: 點(diǎn)擊:


      結(jié)晶粉是目前用量最大的拋光材料,它攜帶方便,出光效率高、效果好,因此廣受歡迎。但是,結(jié)晶粉種類繁多,而且使用時(shí)不同的人有不同的操作習(xí)慣。比如:有些人會研磨到3000#做粉,有些人會研磨到2000#,還有一些人會研磨到1000#。石材研習(xí)社stone5A

那么,這種差異是否僅僅是習(xí)慣上的不同,于出光效果并無本質(zhì)性的影響呢?其實(shí)并不是。我們就來分析一下,研磨到不同的目數(shù)對結(jié)晶粉出光效果的影響,從大家一個(gè)最好的參考。

                      

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石材結(jié)晶


一、拋光原理的差異


      石材能夠拋出光來,需要研磨和結(jié)晶兩個(gè)環(huán)節(jié),我們就來看看這兩個(gè)環(huán)節(jié)中都是哪些原理能夠影響出光的效果。


1、1000#和3000#的區(qū)別


      1000#磨片,和3000#的磨片,一般的理解是目數(shù)更高,磨料材質(zhì)更細(xì)膩,僅此而已。但實(shí)際上它們之間還有一個(gè)巨大的差異,即:


1000#的磨片,起主要作用的還是磨料的磨削功能。但是到達(dá)2000#和3000#時(shí),這種磨削功能所占的比例在降低。同時(shí),磨片中的樹脂脫模、填補(bǔ)作用所占的比例則大大提升。


“  磨削”和“填補(bǔ)”,這兩種功能所占的比例變化,就是1000#和3000#磨片最本質(zhì)的差異。也即,目前磨片的制造原理和工藝決定了2000#和3000#的出光效果中,樹脂的填補(bǔ)作用占據(jù)了很大的比例。而樹脂,是大部分磨片制造時(shí)的必須材料,少不了的。

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1000#和3000#


2、結(jié)晶粉的出光原理


      同時(shí),和劑、漿、膏等其他大部分結(jié)晶材料相比,結(jié)晶粉的拋光原理中,草酸、氟硅酸等酸性材料的化學(xué)刻蝕作用所占的比例較高。


這是結(jié)晶粉區(qū)別于其他材料的顯著特點(diǎn),也正是由于粉的化學(xué)作用相對“猛烈”,所以能夠做到出光快。而其他材料的拋光原理中,樹脂、蠟質(zhì)成分的填補(bǔ)作用,所占的比例更高。


二、不同目數(shù)對拋光的影響


1、“樹脂隔離層”的影響


      在施工中,研磨到1000#的時(shí)候,地面的平整度已經(jīng)基本成型。而后面的2000#和3000#更多的是依靠樹脂填補(bǔ),優(yōu)化和提升到更高的光澤度而已。所以,研磨到1000#,地面的基礎(chǔ)已經(jīng)打好。這時(shí)利用結(jié)晶粉較強(qiáng)的化學(xué)刻蝕作用,就已經(jīng)能做出良好的效果。比較典型的有VD大理石黃金粉,由于使用了進(jìn)口氟硅酸成分和高性能樹脂,研磨到1000#就能做出極佳的效果,高于1000#效果反而會下降。


      最重要的關(guān)鍵點(diǎn)在于:1000#的磨片,樹脂的填補(bǔ)功能所占的比例非常低,這使得1000#磨完,地面上并不存在一個(gè)樹脂凝結(jié)成的“樹脂隔離層”。因此,粉在這個(gè)時(shí)候可以和石材的材質(zhì)成分充分接觸,使化學(xué)刻蝕作用能夠良好的進(jìn)行。


但是,如果磨到2000#、3000#,甚至有些人會磨到6000#。還有一些人用樹脂做成的海綿拋研磨。


從2000#開始,磨片中的樹脂脫模、填補(bǔ)作用就大大加強(qiáng)。這就會在石材表面形成一個(gè)“樹脂隔離層”。而且目數(shù)越高,這層“樹脂隔離層”就越厚。研磨到6000#,或者用樹脂海綿拋,就更不用說了。


2、隔開了化學(xué)刻蝕作用


       前面說,粉這種材料研發(fā)時(shí),利用的最核心的原理就是草酸、氟硅酸的化學(xué)刻蝕作用。


但是,研磨到2000#或3000#,形成的“樹脂隔離層”阻隔了這些酸性材料和石材本身成分的接觸,大大降低了化學(xué)刻蝕這一過程的效率。同時(shí),石材的結(jié)晶過程中,水也是一個(gè)關(guān)鍵因素。通過水的浸泡作用,可以軟化大理石中的碳酸鈣成分,有利于刻蝕作用。


但是“樹脂隔離層”把水和結(jié)晶粉都隔開了,自然會大大降低出光的效果。


同時(shí),許多結(jié)晶粉中也添加有樹脂成分,但粉里面的樹脂,和磨片中的樹脂,不是同一種樹脂。不但起不到填補(bǔ)效果,反而會和“樹脂隔離層”出現(xiàn)打架的情況。具體的表現(xiàn)就是昏暗無光,效果極差。


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光澤度不佳


三、結(jié)論


綜上所述,用結(jié)晶粉拋光時(shí),研磨到1000#效果最佳。


由于其中的主要原理,即這層“樹脂隔離層”很少有人關(guān)注。這使得很多做工程多年的老同志也不甚明了,所以有時(shí)候習(xí)慣于做到2000#或者3000#拋光,不但出不來效果,結(jié)晶粉的酸性還會把已經(jīng)研磨出的基礎(chǔ)光澤度燒蝕掉。


所以有時(shí)候并不是粉的問題,就是這個(gè)“樹脂隔離層”在作怪。當(dāng)發(fā)現(xiàn)粉出不了光的時(shí)候,不妨研磨到1000#試試。省去了兩道磨片的研磨,還能帶來更好的效果。省時(shí)省力,何樂而不為呢?


四、引申的解釋


    會有人好奇,那為什么劑、漿、膏等材料,就能磨到3000#做呢?


答案前面也有。就是因?yàn)閯{、膏中大多含有蠟質(zhì)成分,蠟質(zhì)在樹脂隔離層上的填補(bǔ)效果就很好。因此,劑、漿、膏能夠在磨完3000#之后做。而且一些劑、漿、膏還必須在研磨到3000#之后做,因?yàn)檫@些材料中化學(xué)刻蝕原理所占的比例較低,必須依靠蠟質(zhì)的填補(bǔ)作用來出光,因此對研磨出來的底子要求較高。


      同樣,使用封釉技術(shù)拋光時(shí),由于封釉利用的是二氧化硅的覆蓋成膜原理,這是一種物理作用,不存在化學(xué)刻蝕過程。因此,封釉技術(shù)對石材研磨出來的底子要求更高,做封釉需要研磨到3000#。

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